某光电器件制作业品牌因晶圆洗工艺程序导致含氨工业废水，出水量200吨/天。工业废一般的水都除挥发酚外还富含氟化物和进样器高价属，清理麻烦大。地方排放量标淮特殊要求挥发酚＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 电镀废水材料及的来源 晶圆洗掉化工废水（主耍主要来源）：含化学需氧量200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀工艺程序电镀废水：含进样器铜、镍等巨资属，pH值跌涨大 CMP抛光废水处理：含硅颗粒状及氟化物 外理工艺设计工作流程 选择"无机化学沉淀物+膜剥离 +折点氯化"搭配组合的工艺： 预处置 ：添加CaCl2除氟，调节pH在7.5-8. 反渗透膜装置 ：我们要除0.01μm超过粒子物 反侵入浸提 ：将氯离子沉淀至1000mg/L以下 折点氯化 ：准确度掌控氯加药系统量，将氧化还原电位和转化了为氦气 化合物交易 ：保驾护航高价属符合标准 然后特效 化学需氧量不稳定性＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 天价属含锌量少于探测限 水循环率达75% 飞灰所产生量削减40%